工作職責(zé)：
【Doping】
1. G6 LTPO產(chǎn)線離子注入及相關(guān)設(shè)備檢討
2. 設(shè)備Setup，Recipe Tuning，特性調(diào)整
3. 設(shè)備運(yùn)營(yíng)&維護(hù)，不良改善

【Sputter】
1. G6 LTPO產(chǎn)線Sputter及相關(guān)設(shè)備檢討
2. 設(shè)備Setup，Process Tuning，膜厚及Rs均一性改善，Glass Broken及P/T改善
3. 設(shè)備運(yùn)營(yíng)&維護(hù)，不良分析改善

【Dry Etch】
1. 負(fù)責(zé)Dry Etch設(shè)備Set Up與工藝調(diào)試
2. 負(fù)責(zé)Dry Etch過(guò)程數(shù)據(jù)CD/AOI/SEM等數(shù)據(jù)庫(kù)建模和管理
3. 負(fù)責(zé)Dry Etch 工藝Margin設(shè)計(jì)及不良數(shù)據(jù)庫(kù)建立和改善

任職要求
1.大學(xué)本科及以上學(xué)歷，所需專業(yè):機(jī)械、自動(dòng)化，化學(xué)工程、材料科學(xué)等相關(guān)專業(yè)；
2.4年以上TFT行業(yè)設(shè)備與工藝相關(guān)工作經(jīng)驗(yàn)，有設(shè)備檢討經(jīng)驗(yàn)，Setup經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先；熟練掌握Track設(shè)備操作，以及現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備宕機(jī)處理經(jīng)驗(yàn)；
其他要求:良好的報(bào)告撰寫能力、邏輯思維能力、溝通協(xié)作能力，以及數(shù)據(jù)分析與總結(jié)能力，有抗壓能力；
語(yǔ)言要求:通過(guò)英語(yǔ)四級(jí)。